光刻机（Lithography）是一种常见的微电子制造技术，用来在半导体片表面制造电路图案。光刻机利用特殊的光学技术从导入的制图数据生成微小的图案，并将它们印制到半导体片上。目前，光刻机是制造集成电路（IC）和许多其他微型电子元件的首选技术。
光刻机的工作原理是通过将光强集中在一定范围内来形成图案。首先，制图软件将电路图案数据转换为数字信号，并将其传输给光刻机控制器。控制器通过激光和反射镜，在光刻机的控制范围内形成一个凸出的电路图案。接下来，光刻机会将光线聚焦在半导体片上，然后用光敏树脂对半导体片进行光刻。在这个过程中，光线被聚焦为极小的光点，并传递给半导体片上的光敏材料。随着光照作用的持续，光敏树脂在半导体片上形成电路图案。完成后，光敏树脂将经过加热处理并去除，其余区域则被保留在半导体片上。这样，就形成了微小而精确的电路图案。
现代光刻机的技术水平已经非常高，能够实现非常小的电路图案和非常高的分辨率。这些技术的不断发展还可以帮助扩大电路板上的功能。然而，因为仅适用于制造高精度电路图案，所以光刻机通常只在大规模生产期间使用。此外，随着半导体产业的不断发展，需要更高的解决方案，例如极紫外光刻（EUV），这需要更高的能量浓度。
总之，光刻机是一种高精度的半导体制造技术，在电子工业中至关重要。除了帮助生产集成电路和其他微型制品之外，它还为这些产品的发展开辟了更多的前途。
